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濺射靶材是電子信息產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵原材料之一，其產(chǎn)品質(zhì)量關(guān)系到濺射薄膜的品質(zhì)和濺射設(shè)備的安全。濺射靶材種類繁多l(xiāng)1 ]。從材質(zhì)來說，包括鋁及鋁合金、銅及銅合金、鎳及鎳合金、鉻...

靶材是幾乎所有電子器件中不可或缺的材料之一，因為靶材能夠提供獨特的物理和化學性質(zhì)，這些性質(zhì)可以用于制造微型電路板、半導(dǎo)體芯片、納米材料、薄膜涂層等各種電子部件。不同...

目前的情況下，濺射靶材的制造以及磁控濺射技術(shù)和工藝水平下，薄膜的沉積工藝中依然有一些常見的異常缺陷，研究如何解決這些缺陷，不僅可以提高芯片的良率，更重要是可以保證芯片功能...

引言隨著我國工業(yè)技術(shù)發(fā)展及新技術(shù)的引進，管道的腐蝕問題是影響現(xiàn)代工業(yè)發(fā)展的一個極為嚴重的破壞因素，工礦化工等企業(yè)的管道腐蝕所引起跑、冒、滴、漏除影響著正常生產(chǎn)外，還降...

濺射靶材集中用于信息存儲、集成電路、顯示器、汽車后視鏡等產(chǎn)業(yè)[1]，主要用于磁控濺射各種薄膜材料。磁控濺射是一種制備薄膜材料的方法，利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚...

鈦合金由于具有比強度高、耐高溫、耐腐蝕性等 優(yōu)異的綜合性能，在航空航天、艦船和核電等工業(yè)領(lǐng) 域得到廣泛的應(yīng)用冋。隨著塑性成形加工技術(shù)的不 斷發(fā)展，市場對鍛件產(chǎn)品質(zhì)量要...

引言 1 金基合金的種類及應(yīng)用磁控濺射技術(shù)利用電子源產(chǎn)生電子，其在真空中通過加速聚焦形成高速能量粒子束轟擊固體表面(靶材)，被激發(fā)出來的原子沉積在基底表面形成覆膜。該技...

純金屬濺射靶材是集成電路用關(guān)鍵基礎(chǔ)材料，對實現(xiàn)集成電路用靶材的全面自主可控，推動集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展具有基礎(chǔ)性價值。在我國，集成電路用高純金屬濺射靶材行業(yè)起步較晚、...

鈦合金技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀1. 鈦的冶煉提取技術(shù)。鈉還原法和鎂還原法是生產(chǎn)海綿鈦的主要方法，另外有美國的改進型克勞爾法、阿姆斯特朗法、SRI 法等，還有導(dǎo)電體介入還原法、Hunter法...

中國船用鈦合金的研究與應(yīng)用始于20世紀60年代，經(jīng)過50余年的努力，船用鈦的研究及應(yīng)用水平有了很大提高，已形成較完整的船用鈦合金系列，能滿足水面艦艇、水下潛艇和深潛器不同強度...

管道是由管子、管子連接件和閥門等組成。管子連接件即管道配件，簡稱管件，它在管道中用以連接管子、閥門和設(shè)備的進出口接管。使用管件可以滿足管道布置和裝配的各種要求，例如接...

一、前言集成電路產(chǎn)業(yè)是信息技術(shù)領(lǐng)域的核心產(chǎn)業(yè)，是事關(guān)經(jīng)濟社會發(fā)展和國家安全的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性、先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè)。隨著第五代移動通信、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等信息技術(shù)的迅速發(fā)展，集...

　軍用鈦合金標準與規(guī)范在研究地面裝備用鈦合金的過程中，世界許多國為規(guī)范和推動鈦合金的應(yīng)用，相繼制定了不同鈦合金的標準和行業(yè)規(guī)范，如ＭＩＬＤＴＬ４６０７７Ｇ、ＡＴＩ６４ＭＩＬ、ＡＴＩ４２５等。３．１　美國鈦合金標準美國鈦...

1、引言鈦金屬在地殼中主要以氧化鈦（TiO2）的形式存在，其含量僅次于鋁、鐵、鎂，儲存量十分豐富。作為一種稀有金屬，1791 年作為一種礦物質(zhì)被發(fā)現(xiàn)；1940年盧森堡科學家用鎂還原TiCl4...

引言薄壁卷焊鈦管是利用TIG 自動卷焊技術(shù)制作的傳熱管，TA2 工業(yè)純鈦耐腐蝕性較強，具有較高強度和塑韌性。目前海水淡化工程中的鈦焊管厚度通常是0.5mm，不易滿足海水淡化工作對...

引言鈦金屬在地殼中比較豐富，儲量超過銅、鋅等常見金屬。鈦合金則是鈦和其他金屬混合制成的合金材料，具有較高的強度、耐熱性和耐腐蝕性 [1]?；谶@些優(yōu)良特性，鈦合金的應(yīng)用市...

在各種鈦合金制品的應(yīng)用中，鈦合金鍛件多被用于氣輪機壓縮機盤以及醫(yī)用人工骨等要求高強高韌高可靠性的場合。因此，對鈦鍛件不僅要求尺寸精度高，而且要求材料具有優(yōu)良的特性和高...

AMS標準被譽為航空航天材料領(lǐng)域的“全球性標準”，適用于全球范圍內(nèi)航空飛行器零件、系統(tǒng)的設(shè)計和生產(chǎn)以及政府采購，也是可供我國航空材料研制、生產(chǎn)和使用參照的重要材料標準...

靶材是半導(dǎo)體、顯示面板、異質(zhì)結(jié)光伏領(lǐng)域等的關(guān)鍵核心材料，存在工藝不可替代性。靶材用于“晶圓制造”和“芯片封裝”兩個環(huán)節(jié)，在晶圓制造環(huán)節(jié)主要被用作金屬濺鍍，在芯片封裝環(huán)...

眾所周知，純度是靶材的主要性能指標之一，在實際使用中，對靶材的純度要求也不盡相同。相比一般的工業(yè)純鈦，高純鈦價格昂貴，應(yīng)用范圍較窄。主要用來滿足一些特殊行業(yè)的使用。有關(guān)高...

鈦及鈦合金具有密度小、比強度高、高低溫性能優(yōu)異、耐蝕性好等特點，在航空、航天、化工、冶金及艦船等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。目前焊接用鈦及鈦合金絲材(以下簡稱鈦焊絲)用量大約...

在日本，鈦的生產(chǎn)技術(shù)確立后已經(jīng)歷了20多年，產(chǎn)量逐漸增大，現(xiàn)已達到大約1萬t/a。但是，鈦絲材的產(chǎn)量卻非常低，每年僅200t左右，使用范圍僅局限于焊絲、飛機用螺栓類 眼鏡架以及擊劍面...

鉬屬于難熔金屬，體心立方結(jié)構(gòu)，具有導(dǎo)電導(dǎo)熱性好、熱膨脹系數(shù)低、耐腐蝕性好及環(huán)境友好等優(yōu)點，鉬薄膜的比阻抗和膜應(yīng)力僅為鉻的一半，因此，由鉬及鉬合金制備的濺射靶材已廣泛應(yīng)用于...

濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件...

鉬合金的應(yīng)用鉬是鋼鐵工業(yè)不可缺少的極為重要的添加劑 [23] 。鉬的化工產(chǎn)品是石油工業(yè)、金屬防腐、顏料化工不可缺少的原料。這些特點促使鉬和鉬合金在各個工業(yè)部門都有很...

引言隨著我國工業(yè)技術(shù)發(fā)展及新技術(shù)的引進，管道的腐蝕問題是影響現(xiàn)代工業(yè)發(fā)展的一個極為嚴重的破壞因素，工礦化工等企業(yè)的管道腐蝕所引起跑、冒、滴、漏除影響著正常生產(chǎn)外，還降...

鈦是20世紀50年代發(fā)展起來的一種重要的結(jié)構(gòu)金屬，它具有密度小、比強度高、中溫性能和耐腐蝕性能好等顯著優(yōu)點。為了使鈦合金能達到令人滿意的綜合力學性能，擴大鈦的使用范，在純...

航空航天技術(shù)是高度綜合的現(xiàn)代科學技術(shù)，也是國家最高工業(yè)水平 的體現(xiàn)之一。航空航天器在運行過 程中需克服重力，且在高溫、高速等 復(fù)雜環(huán)境中服役，因此，該領(lǐng)域部件的輕質(zhì)化要求...

鈦及鈦合金材料具有高強度、良好的塑性和韌性，并具有足夠的耐腐蝕性和高溫強度，在航天、造船、化工等方面的應(yīng)用愈發(fā)廣泛。雖然鈦制設(shè)備的一次性投資巨大， 但設(shè)備的可靠性和使...

前言鈦合金具有比強度高、低溫性能好、生物兼容性優(yōu)異等特點，廣泛應(yīng)用于航空、航天、生物醫(yī)學和汽車等領(lǐng)域。但同時鈦合金受硬度低、耐磨性差、高溫易氧化以及生物活性低等缺...

難熔金屬鉬具有高導(dǎo)熱性、良好的導(dǎo)電性及熱穩(wěn)定性等優(yōu)點。鉬靶材濺射薄膜， 主要應(yīng)用于TFT-LCD 屏幕的薄膜晶體管，能夠瞬間控制個體圖像點（像素），從而確保顯示屏的圖像質(zhì)量[1-2]。...

目前，我國已發(fā)展成世界鈦工業(yè)大國，鈦產(chǎn)能與產(chǎn)量均位居世界首位，然而國內(nèi)鈦材的整體技術(shù)含量較低、產(chǎn)品附加值低、產(chǎn)能嚴重過剩，鈦工業(yè)面臨" 大而不強" 的處境，加大鈦材深加工及開...

1 前言靶材是濺射源的一種。通過多弧的離子態(tài)鍍膜系統(tǒng)或不同形態(tài)不同方式的鍍膜系統(tǒng)，或者是利用磁場控制濺射在嚴格可控的工藝以及一定的實驗條件下，濺射在不同功能的基板上形...

引言近年來，計算機輔助設(shè)計技術(shù)（ＣＡＤ）的進步，推動了增材制造（ＡＭ）（又稱 ３Ｄ 打?。┘夹g(shù)的快速發(fā)展。 增材制造技術(shù)是一種基于三維數(shù)字模型，對產(chǎn)品進行建模分層，采用逐層制造方式將材料結(jié)合起來形...

鉻靶材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用行業(yè)薄膜技術(shù)的發(fā)展趨勢密切相關(guān)。 隨著應(yīng)用行業(yè)中薄膜產(chǎn)品或組件技術(shù)的進步，鉻靶目標技術(shù)也應(yīng)隨之改變。微電子領(lǐng)域：在所有應(yīng)用行業(yè)中，半導(dǎo)...

濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件...