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選取優(yōu)質(zhì)鈦坯下料、加熱、成形、鍛后冷卻。鍛造工藝方法有自由鍛、模鍛和胎模鍛。生產(chǎn)時(shí)，按鍛件質(zhì)量大小，生產(chǎn)批量多少選擇不同鍛造方法。自由鍛鈦法蘭的基本工序：自由鍛造時(shí)，鍛...

在工作中經(jīng)常會(huì)遇到一些鈦材重量的計(jì)算問(wèn)題，凱澤金屬結(jié)合多年的鈦絲、鈦棒生產(chǎn)實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，將常用鈦合金材料的重量計(jì)算方法，分享如下：1、鈦板/方棒重量計(jì)算公式公式：長(zhǎng)度(mm)×寬度...

這種機(jī)械處理方法是：將鈦加工件埋在許多磨料中，加入一些溶解在水中的研磨拋光化合物，利用振蕩原理將磨料與數(shù)據(jù)混合，不斷要求工件清洗，用磨料研磨工件的表面和角落，然后得到拋光。...

在一定條件下，反應(yīng)空間也會(huì)發(fā)生氣相反應(yīng)，生成一些爬壁鈦和粉末鈦。爬壁鈦粘附在反應(yīng)器壁上，粉末鈦法蘭則沉積于熔體里或爬壁鈦上。爬壁鈦法蘭主要是揮發(fā)在空間或冷凝在反應(yīng)器壁...

制造的金屬鍍膜工藝中，日本的日礦材料公司生產(chǎn)高純鈦濺射靶、銅、鉭、鈷、鎢、鎳等高純金屬以及合金靶、鈦硅化物靶等，供給全世界的半導(dǎo)體廠(chǎng)家。高純?yōu)R射鈦靶材主要是用做鋁配...

新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周?chē)臍鍤怆x子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的...

鈦法蘭廠(chǎng)家對(duì)法蘭熱加工，主要是鍛造、軋制和擠壓是鈦法蘭半成品及產(chǎn)品的基本生產(chǎn)手段。鑒于鈦法蘭組織結(jié)構(gòu)對(duì)熱加工工藝具毛根強(qiáng)的敏感性，因此正確選擇和掌握工藝參數(shù)不僅對(duì)保...

眾所周知，鈦靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與靶材的制備發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。下面就跟著凱澤金屬起來(lái)了解下靶材的制備方法...

高純?yōu)R射靶材是伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展而興起的，濺射靶材市場(chǎng)不僅僅在于電子行業(yè)，近年來(lái)砍濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模正在悄然發(fā)展，下面就讓我們起來(lái)了解下濺射靶材的難點(diǎn)及市場(chǎng)空間。...

濺射鈦靶材在使用過(guò)程中有較高的要求，不僅要求純度、尺寸，甚至還有晶粒尺寸均勻性等，這些高要求使得我們?cè)谑褂脼R射靶材時(shí)更加要注意。下面就讓我們?nèi)チ私庀聻R射靶材在使用過(guò)程...

目前，鈮靶、鉻靶的制備主要包括特殊的熔融法和粉末冶金法。特殊的熔化方法：將具有一定組成比的合金原料熔化，然后將合金溶液倒入模具中形成鑄錠，最后機(jī)加工成目標(biāo)材料。 鈮靶、...

2019年9月13日凌晨，相信很多“果粉”都會(huì)在手機(jī)屏幕前守著觀(guān)看蘋(píng)果發(fā)布會(huì)。這次發(fā)布會(huì)蘋(píng)果手機(jī)推出了三款新產(chǎn)品，它在眾多手機(jī)品中，憑借各種優(yōu)勢(shì)脫穎而出，但你們知道么，其實(shí)手機(jī)...

靶材的鍍膜凱澤金屬在之前的文章中簡(jiǎn)單講過(guò)，在濺射的過(guò)程中，對(duì)靶材的質(zhì)量相比于傳統(tǒng)的材料行業(yè)來(lái)說(shuō)，要求較為高些。在“靶材質(zhì)量對(duì)大面積鍍膜生產(chǎn)的三大影響” 本文中，凱澤金屬...

金屬靶材是指用在高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。并且通過(guò)更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。而隨著時(shí)代的發(fā)展，越...

銅靶材目前廣泛應(yīng)用于電子、通信、超導(dǎo)、航天等領(lǐng)域，并且銅靶材價(jià)格低廉，使得其成為真空鍍膜行業(yè)中的主力軍。由于真空鍍膜行業(yè)的限制，對(duì)銅靶材的尺寸和形狀要求嚴(yán)格，因而必須嚴(yán)...

濺射靶材在隨著使用率的增加，表面可能會(huì)附著有殘留物，如粉塵、油污、氧化物等，繼而靶材表面有不同程度的結(jié)瘤，產(chǎn)品質(zhì)量也會(huì)有所下降，導(dǎo)致生產(chǎn)成本增加。因此，需要濺射靶材進(jìn)行充分...

鈦合金比重小、熔點(diǎn)高（1600℃左右）、塑性好，具有比強(qiáng)度高、耐蝕性強(qiáng)，能在高溫下長(zhǎng)期工作等優(yōu)點(diǎn)，因而已經(jīng)越來(lái)越多地用作飛機(jī)和飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的重要承載部件，除了鈦合金材料的鍛件外，還...

濺射靶材是通過(guò)離子轟擊靶材表面，靶材的原子被擊出，此現(xiàn)象稱(chēng)為濺射。濺射靶材在濺射過(guò)程中產(chǎn)生的原子沉積在基體表面成膜被稱(chēng)為濺射鍍膜，然而在濺射鍍膜時(shí)膜層經(jīng)常會(huì)有不少問(wèn)題...

靶材磁控濺射的沉積率也就是沉積的速率，是指沉積物對(duì)可容空間充填的速度。濺射沉積率不僅是成膜速度的一個(gè)重要參數(shù)，也是對(duì)靶材成膜的特性，如牢固度。薄膜應(yīng)力、表面光潔度等有...

鍍膜靶材上的薄膜是一種特殊的物質(zhì)形態(tài)。在厚度這個(gè)特定方向上尺寸很小，是一個(gè)微觀(guān)可測(cè)的量，而且薄膜厚度由于表面和界面的存在，使物質(zhì)連續(xù)性發(fā)生終端，使得薄膜材料與靶材材料產(chǎn)...

鈦靶鎳靶等靶材在使用過(guò)程中，其表面逐漸會(huì)產(chǎn)生一種黑色顆粒狀物質(zhì)，我們稱(chēng)之為黑化物，或是說(shuō)靶材中毒。靶材黑化中毒容易產(chǎn)生諸多問(wèn)題，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此分析靶材黑化中毒的原...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，被廣泛應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如液晶顯示屏、集成電路、平板顯示等等，對(duì)材料的純度和穩(wěn)定性要求較高。更換不同的靶材，即可得到不同的膜系。凱澤金...

鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶等合金濺射靶材的要求比其他材料要高，除了如純度、尺寸、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、缺陷控制等一般要求外，還有表面粗糙度、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺...

硬質(zhì)涂層是通過(guò)氣相沉積法，在硬質(zhì)合金刀片表面上涂覆耐磨的碳化鈦、氧化鋁等薄層，從而形成表面涂層硬質(zhì)合金，這種涂層材料耐磨性好，耐腐蝕，且耐高溫氧化，在切削刀具和耐磨零部件等...

對(duì)于需要制備不同尺寸的靶材所采用的制備方法也不一樣，比如制備小尺寸的靶材，常用的是粉末熱等靜壓法以及粉末壓制燒結(jié)法。那么對(duì)于大尺寸的靶材制備各種表面強(qiáng)化和表面防護(hù)涂...

磁控濺射是制備薄膜材料的關(guān)鍵技術(shù)，而鈦靶材是這項(xiàng)技術(shù)中需要使用的鍍膜材料。現(xiàn)在很多行業(yè)，如集成電路，裝飾鍍膜行業(yè)、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術(shù)，這些行業(yè)對(duì)于產(chǎn)品的質(zhì)...

隨著產(chǎn)業(yè)技術(shù)的發(fā)展，工業(yè)生產(chǎn)需要高質(zhì)量的靶材產(chǎn)品，因?yàn)榘胁牡馁|(zhì)量直接影響著磁控濺射薄膜的性能，目前，企業(yè)一般在購(gòu)買(mǎi)靶材上更偏向用成分結(jié)構(gòu)均勻的高密度靶材進(jìn)行濺射鍍膜，以減...

濺射鉬靶材因其自身優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)在電子行業(yè)、太陽(yáng)能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的應(yīng)用。隨著現(xiàn)代科技微型化、集成化、數(shù)字化、智能化的快速發(fā)展，鉬靶材的用量將持續(xù)增長(zhǎng)，對(duì)其...

鈦靶鎳靶靶材作為磁控濺射系統(tǒng)中的陰極，為制備沉積薄膜提供物質(zhì)來(lái)源，其組織結(jié)構(gòu)和性能的差異對(duì)薄膜的組織結(jié)構(gòu)和性能也應(yīng)該具有密切聯(lián)系。靶材的制作方法之一粉末冶金法中，需要...

大家都知道鈦鎳鋯鉻濺射靶材的規(guī)格很多，而且應(yīng)用行業(yè)也很廣泛，不同行業(yè)常用的靶材種類(lèi)也有所不同，今天我們就隨凱澤金屬一道來(lái)了解濺射靶材的行業(yè)分類(lèi)的相關(guān)知識(shí)吧！一、濺射靶材...

大家都知道靶材分為很多種，比如合金，氧化物，銅、鋁、不銹鋼、鎳、鈦等金屬，而根據(jù)金屬的不同，需要用到各種不同的靶材制備方法，凱澤金屬結(jié)合相關(guān)資料，整理如下：濺射靶材的不同工藝方...

為了降低旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠(chǎng)家和學(xué)者共同對(duì)靶材結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明，通過(guò)調(diào)整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高鈦靶材利用率和靶材的刻蝕...

AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)較好大長(zhǎng)度4000mm，單節(jié)較...

陶瓷靶材的種類(lèi)及其應(yīng)用隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬...

1、化工行業(yè)：整體法蘭(IF)、螺紋法蘭(Th)、板式平焊法蘭(PL)、帶頸對(duì)焊法蘭(WN)、帶頸平焊法蘭(SO)、承插焊法蘭(SW)、對(duì)焊環(huán)松套法蘭(PJ/SE)、平焊環(huán)松套法蘭(PJ/RJ)、襯里...

鈦合金TC4材料的組成為T(mén)i-6Al-4V，屬于(α+β)型鈦合金，具有良好的綜合力學(xué)機(jī)械性能。比強(qiáng)度大。TC4的強(qiáng)度sb=1.012GPa，密度g=4.4*103，比強(qiáng)度sb/g=23.5，而合金鋼的比強(qiáng)度sb/g小于1...