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鈮濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域及工藝概述

發(fā)布時間:2020-03-01 17:53:50 瀏覽次數(shù) :

產(chǎn)品名稱:鈮濺射靶材

材料:純鈮,鈮合金

牌號:R04200,R04210,Nb1,Nb2,NbZr1

密度:≥8.6g/cm3

熔點:2468℃。

真空電子束熔煉工藝生產(chǎn)鈮板,是先將未鍛壓過的鈮條通過真空電子束熔煉爐熔煉成鈮錠,通常分單次熔煉和多次熔煉,我們通常采用兩次熔煉的鈮錠,根據(jù)產(chǎn)品要求的不同我們可以進行兩次以上的熔煉。

應(yīng)用:

鈮靶材廣泛應(yīng)用于超導行業(yè)、用于生產(chǎn)鈮箔、高溫爐內(nèi)隔熱屏、用于生產(chǎn)鈮焊管、用于生產(chǎn)人體植入件。

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