光學(xué)器件用鋯靶材，主要是指用于物理氣相沉積（PVD），特別是磁控濺射工藝，以在高性能光學(xué)元件表面沉積特定功能薄膜的高純鋯金屬或鋯化合物材料。在精密光學(xué)領(lǐng)域，鋯以其高折射率、卓越的化學(xué)和熱穩(wěn)定性，成為制備抗反射、高反射、增透及硬質(zhì)保護(hù)等關(guān)鍵光學(xué)薄膜的核心“源泉”。隨著光學(xué)系統(tǒng)向高功率、高精度和微型化發(fā)展，對(duì)鋯基薄膜及靶材的性能要求日益嚴(yán)苛，其應(yīng)用也從傳統(tǒng)鏡頭鍍膜拓展至激光、光通信和新興光電集成等尖端領(lǐng)域。
一、 定義與材質(zhì)
光學(xué)器件用鋯靶材是光學(xué)鍍膜工藝中關(guān)鍵的濺射源材料。在真空腔體內(nèi)，高能粒子轟擊靶材表面，使鋯原子或分子被濺射出來(lái)，沉積在玻璃、晶體或聚合物等光學(xué)基片上，形成納米至微米級(jí)厚度的功能性薄膜。
主要材質(zhì)分類：
| 材質(zhì)類別 | 典型示例 | 核心特性與光學(xué)應(yīng)用目的 |
| 高純金屬鋯靶 | 純度 ≥ 99.9% (3N) 的金屬鋯 | 灰白色或銀灰色。通常作為反應(yīng)濺射的前驅(qū)體，通入氧氣或氮?dú)夂螅稍诨现苯映练e氧化鋯(ZrO?)或氮化鋯(ZrN)薄膜，用于高折射率層或硬質(zhì)保護(hù)層。 |
| 氧化物陶瓷靶 | 二氧化鋯靶，尤其是氧化釔穩(wěn)定氧化鋯 | 這是應(yīng)用最廣泛的光學(xué)鋯靶材。氧化鋯薄膜具有高折射率、寬光譜透明范圍、低吸收和低散射等優(yōu)點(diǎn)。常與低折射率材料（如SiO?）搭配，用于制備多層抗反射膜、高反射膜和高功率激光薄膜。 |
| 硼化物陶瓷靶 | 二硼化鋯靶 | 具有極高熔點(diǎn)(>3000℃)、高硬度、高化學(xué)穩(wěn)定性和獨(dú)特的高溫導(dǎo)電性。用于沉積超硬、耐磨、耐高溫的防護(hù)涂層，適用于極端環(huán)境下的光學(xué)窗口或需耐磨擦的光學(xué)部件。 |
| 復(fù)合功能靶 | 鋯鈦酸鉛靶 | 用于制備PZT鐵電薄膜。該材料兼具高透明度、優(yōu)異的熱/化學(xué)穩(wěn)定性和極高的電光系數(shù)，是新一代高速、低能耗電光調(diào)制器和集成光子器件的核心候選材料。 |
二、 關(guān)鍵性能特點(diǎn)
光學(xué)領(lǐng)域?qū)︿啺胁牡囊蠛诵膰@其沉積薄膜的光學(xué)性能、穩(wěn)定性和可靠性，可概括為 “光學(xué)優(yōu)異”、“極端穩(wěn)定”與“精密可控”。
卓越的光學(xué)性能：
高折射率：氧化鋯是經(jīng)典的高折射率材料，折射率可達(dá)2.0-2.2（@550nm），是實(shí)現(xiàn)高效減反射和寬光譜調(diào)控的基礎(chǔ)。
低光學(xué)損耗：高質(zhì)量鋯基薄膜在可見(jiàn)光至近紅外波段需具備極低的吸收與散射，以保證光學(xué)系統(tǒng)的高透過(guò)率和高信噪比。
高抗激光損傷閾值：特別是用于高功率激光系統(tǒng)的薄膜（如反射鏡、分光鏡），由鋯靶制備的氧化鋯薄膜能承受極高的激光能量，是保障系統(tǒng)安全運(yùn)行的關(guān)鍵。
優(yōu)異的熱穩(wěn)定性與化學(xué)惰性：鋯金屬本身熔點(diǎn)高達(dá)1855°C，其氧化物、硼化物在高溫下結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，不易發(fā)生相變或分解。同時(shí)，鋯及鋯化合物具有極強(qiáng)的抗腐蝕和抗氧化能力，能確保光學(xué)薄膜在復(fù)雜、嚴(yán)苛的環(huán)境中長(zhǎng)期保持性能穩(wěn)定。
高硬度與良好的機(jī)械性能：鋯及硼化鋯本身硬度高，其沉積的薄膜能有效提升光學(xué)元件表面的耐磨、抗劃傷能力，延長(zhǎng)使用壽命。這對(duì)于經(jīng)常需要清潔和接觸的光學(xué)鏡片、窗口等尤為重要。
靶材本身的高品質(zhì)要求：
高純度：通常要求純度在99.9%（3N）以上，高純度是保證薄膜低吸收、低缺陷的前提。
高密度與均勻微觀結(jié)構(gòu)：靶材需具備高致密度（接近理論密度）和細(xì)小均勻的晶粒，以確保濺射過(guò)程穩(wěn)定、沉積速率均勻，并獲得致密無(wú)針孔的薄膜。
三、 主要執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
光學(xué)器件用鋯靶材目前尚無(wú)全球統(tǒng)一的專用標(biāo)準(zhǔn)，其生產(chǎn)和驗(yàn)收主要依據(jù)以下幾類規(guī)范：
通用基礎(chǔ)材料標(biāo)準(zhǔn)：參考高純金屬、陶瓷材料的相關(guān)國(guó)家或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)化學(xué)成分、雜質(zhì)含量等進(jìn)行規(guī)定。
客戶定制化技術(shù)協(xié)議：這是最主要的質(zhì)量依據(jù)。下游光學(xué)鍍膜廠商或器件制造商（如激光器、高端鏡頭制造商）會(huì)根據(jù)具體產(chǎn)品的光學(xué)設(shè)計(jì)指標(biāo)（如折射率、消光系數(shù)、硬度、耐環(huán)境性等），對(duì)靶材的尺寸、形狀、純度、密度、晶粒尺寸、綁定焊接質(zhì)量等提出嚴(yán)格的定制化要求。
參考性行業(yè)共識(shí)：對(duì)于特定材料，如用于核工業(yè)的硼化鋯（ZrB?）靶材，國(guó)內(nèi)已有相關(guān)單位完成研制并通過(guò)評(píng)審驗(yàn)收，其技術(shù)指標(biāo)（如富集1?B的純度、密度等）對(duì)高性能陶瓷靶有重要參考價(jià)值。
四、 加工工藝、關(guān)鍵技術(shù)及流程
高品質(zhì)光學(xué)鋯靶材的制造是粉末冶金、真空熔煉和精密加工技術(shù)的結(jié)合，核心目標(biāo)是實(shí)現(xiàn) “高純”、“高密”、“均勻”。
1. 核心加工流程：
高純?cè)蠝?zhǔn)備（鋯/化合物粉末或錠） → 成型與致密化（熔煉鑄造或粉末壓制燒結(jié)） → 熱處理（均勻化/退火） → 精密機(jī)械加工（切割、研磨、拋光） → 背板焊接（與無(wú)氧銅背板綁定） → 最終精密加工與超凈清洗 → 檢測(cè)與真空包裝。
2. 關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)：
高純?cè)现苽渑c提純技術(shù)：采用區(qū)域熔煉、電子束熔煉（EBM）等技術(shù)對(duì)金屬鋯進(jìn)行提純，或通過(guò)化學(xué)合成法獲得高純、超細(xì)的氧化物/硼化物粉末。
高致密化成型技術(shù)：
對(duì)于金屬鋯靶，可采用真空自耗或電子束熔煉后鍛造的工藝。
對(duì)于陶瓷靶（如ZrO?、ZrB?），熱壓燒結(jié)（HPS） 和 熱等靜壓燒結(jié)（HIP） 是主流方法，通過(guò)在高溫高壓下使粉末顆粒致密結(jié)合，獲得接近理論密度、微觀結(jié)構(gòu)均勻的靶坯。
微觀組織均勻性調(diào)控技術(shù)：精確控制燒結(jié)/熱處理工藝的溫度、壓力和時(shí)間曲線，以細(xì)化晶粒、消除孔隙和內(nèi)應(yīng)力，確保靶材在濺射時(shí)各部位濺射速率一致。
精密加工與綁定技術(shù)：采用高精度數(shù)控機(jī)床加工，確保靶材尺寸和形位公差。靶材與銅背板的焊接（常用擴(kuò)散焊或釬焊） 必須實(shí)現(xiàn)極高的結(jié)合強(qiáng)度、低熱阻和完美的氣密性，以保證高功率濺射時(shí)熱量能迅速傳導(dǎo)，避免靶材開(kāi)裂。
五、 在光學(xué)與相關(guān)領(lǐng)域的具體應(yīng)用
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 具體功能與作用 | 技術(shù)要求與工藝特點(diǎn) |
| 硬質(zhì)涂層與工具鍍膜 | 在切削刀具、模具及高磨損機(jī)械部件表面沉積氮化鋯（CrN） 或硼化鋯（ZrB?） 薄膜。利用其超高硬度、耐磨性和低摩擦系數(shù)，顯著提高工具壽命和加工精度。 | 追求薄膜的極限機(jī)械性能。要求膜層與基體附著力極強(qiáng)，厚度均勻（通常幾微米），且內(nèi)應(yīng)力可控。常采用反應(yīng)濺射或非反應(yīng)濺射。 |
| 光學(xué)器件鍍膜 | 1. 抗反射與增透膜：在相機(jī)鏡頭、激光鏡片、光學(xué)傳感器表面，利用氧化鋯（ZrO?） 高折射率特性，與低折射率材料（如SiO?）交替疊加，設(shè)計(jì)多層膜系以最大限度降低特定波段反射損失，提高透過(guò)率。
| 對(duì)薄膜的光學(xué)常數(shù)（折射率n、消光系數(shù)k）精度、厚度均勻性、低缺陷密度要求極為苛刻。工藝上需精確控制濺射氣體氛圍、功率和基片溫度。 |
| 2. 高反射膜與激光膜：用于激光諧振腔反射鏡、分光鏡等。氧化鋯薄膜因其高抗激光損傷閾值，是制備高功率激光薄膜的關(guān)鍵材料之一。 |
| 3. 濾光片與裝飾膜：通過(guò)精確控制膜厚和層數(shù)，制備干涉濾光片。氮化鋯（ZrN）因其呈現(xiàn)類似黃金的色彩，也可用于高檔裝飾性光學(xué)件。 |
| 儲(chǔ)能領(lǐng)域 | 1. 固態(tài)電池電解質(zhì)/界面層：氧化鋯基薄膜（如摻雜的YSZ）因其良好的離子電導(dǎo)率和化學(xué)穩(wěn)定性，被研究用于全固態(tài)薄膜電池的電解質(zhì)層或電極保護(hù)層。
| 關(guān)注薄膜的離子傳輸性能、電化學(xué)穩(wěn)定性及極致致密性（無(wú)針孔）。工藝需與敏感的電化學(xué)材料或柔性基底兼容。 |
| 2. 器件封裝阻隔層：致密的氧化鋯薄膜可作為高效的水汽和氧氣阻隔層，用于延長(zhǎng)柔性太陽(yáng)能電池、OLED等器件的使用壽命。 |
| 新興光電器件 | 集成光子學(xué)：利用鋯鈦酸鉛（PZT） 鐵電靶材，通過(guò)磁控濺射在硅基襯底上制備單晶或高質(zhì)量多晶PZT薄膜。用于制造高速電光調(diào)制器、光學(xué)開(kāi)關(guān)等，是未來(lái)高速光通信和光計(jì)算芯片的核心材料。 | 要求薄膜具有高電光系數(shù)、低光學(xué)損耗和與CMOS工藝兼容的成膜溫度。對(duì)靶材的成分均勻性和純度要求極高。 |
六、 與其他領(lǐng)域用鋯靶材的對(duì)比分析
不同應(yīng)用領(lǐng)域?qū)︿啺胁牡男阅芤蟪尸F(xiàn)顯著差異，體現(xiàn)了材料性能與應(yīng)用需求的精準(zhǔn)匹配。
| 對(duì)比維度 | 光學(xué)器件領(lǐng)域 | 核電與核工業(yè) | 化工防腐與海洋工程 | 半導(dǎo)體與微電子 |
| 核心要求 | 精確的光學(xué)性能、高抗激光損傷閾值、優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性。 | 低中子吸收截面、高抗輻射損傷能力、極端環(huán)境穩(wěn)定性。 | 極致耐腐蝕、抗沖刷、長(zhǎng)期服役可靠性。 | 超高純度（5N-6N）、納米級(jí)均勻性、特定的電學(xué)性能。 |
| 典型材質(zhì) | 二氧化鋯靶、硼化鋯靶、鋯鈦酸鉛靶。 | 鋯合金靶、富集1?B的硼化鋯靶。 | 工業(yè)純鋯、鋯合金。 | 高純鋯（用于阻擋層）、氮化鋯。 |
| 性能焦點(diǎn) | 折射率、消光系數(shù)、激光損傷閾值、硬度、附著力。 | 中子吸收效率、輻照后力學(xué)性能、耐腐蝕性。 | 在各種酸、堿、鹽及海水介質(zhì)中的長(zhǎng)期耐蝕性、抗應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂。 | 薄膜的電阻率、擴(kuò)散阻擋能力、與硅/介質(zhì)層的界面特性。 |
| 技術(shù)門檻 | 高。需精確控制薄膜的光學(xué)常數(shù)和微觀結(jié)構(gòu)，對(duì)鍍膜工藝和靶材均勻性要求極高。 | 極高。涉及核安全，材料需經(jīng)過(guò)嚴(yán)苛的輻照考驗(yàn)和長(zhǎng)期壽命評(píng)估，認(rèn)證壁壘高。 | 高。需通過(guò)長(zhǎng)時(shí)間、模擬嚴(yán)苛工況的腐蝕測(cè)試認(rèn)證。 | 最高。要求原子級(jí)缺陷控制，認(rèn)證周期極長(zhǎng)，供應(yīng)鏈高度集中。 |
| 應(yīng)用目標(biāo) | 提升光學(xué)系統(tǒng)效率、功率和可靠性。 | 核燃料包殼、控制棒、反應(yīng)堆結(jié)構(gòu)材料，保障核安全與效率。 | 延長(zhǎng)化工設(shè)備、船舶部件在腐蝕環(huán)境中的使用壽命。 | 制造晶體管、互連線、存儲(chǔ)單元，追求更高性能與集成度。 |
注：在顯示面板領(lǐng)域，鋯可能作為摻雜劑用于調(diào)節(jié)透明導(dǎo)電氧化物性能，核心是導(dǎo)電性與透光率的平衡。在光伏能源領(lǐng)域，氧化鋯可用于減反射層或封裝阻隔層，追求高透過(guò)率和耐候性。在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，二氧化鋯陶瓷靶用于制備人工關(guān)節(jié)涂層，核心是生物相容性和骨整合能力。在航空航天領(lǐng)域，硼化鋯靶用于發(fā)動(dòng)機(jī)熱端部件防護(hù)，要求耐超高溫氧化和抗熱震。
七、 未來(lái)發(fā)展新領(lǐng)域與方向
面向超快光學(xué)與強(qiáng)激光系統(tǒng)的薄膜：
隨著飛秒、阿秒激光及超高功率激光裝置的發(fā)展，對(duì)光學(xué)薄膜的抗損傷能力提出近乎極限的要求。開(kāi)發(fā)具有更高損傷閾值、更低本征吸收的新型鋯基納米復(fù)合薄膜材料（如ZrO?與超寬帶隙材料的納米復(fù)合）是關(guān)鍵方向。
智能光學(xué)與動(dòng)態(tài)可調(diào)薄膜：
將鋯鈦酸鉛（PZT）等具有優(yōu)異電光、熱光效應(yīng)的鐵電材料與光學(xué)薄膜結(jié)合，開(kāi)發(fā)電控/熱控可變光學(xué)元件（如動(dòng)態(tài)變焦透鏡、可調(diào)濾波器、光學(xué)相控陣）。這要求靶材能沉積出高質(zhì)量、大面積的單晶或高度擇優(yōu)取向的多晶PZT薄膜。
片上集成光子學(xué)與異質(zhì)集成：
硅基光子學(xué)與CMOS工藝的深度融合，需要高性能、可集成的電光材料。以PZT為代表的鋯基鐵電薄膜，因其高電光系數(shù)和CMOS工藝兼容性，成為突破硅本身無(wú)電光效應(yīng)瓶頸的理想選擇，未來(lái)將在高速光互連、光計(jì)算和微波光子學(xué)芯片中扮演核心角色。
極端環(huán)境光學(xué)傳感器涂層：
針對(duì)深空探測(cè)、深海觀測(cè)、核設(shè)施監(jiān)控等極端環(huán)境，開(kāi)發(fā)基于硼化鋯（ZrB?） 等超高溫陶瓷的多功能一體化光學(xué)保護(hù)涂層。此類涂層需同時(shí)滿足光學(xué)透明、耐極端溫度、抗輻射、抗腐蝕等多重苛刻要求。
綠色制備與全生命周期管理：
開(kāi)發(fā)更高材料利用率的靶材設(shè)計(jì)（如旋轉(zhuǎn)靶、異形拼接靶）和廢舊靶材的高效回收再生技術(shù)，降低昂貴鋯資源的消耗和生產(chǎn)成本，符合可持續(xù)發(fā)展趨勢(shì)。
總而言之，光學(xué)器件用鋯靶材的發(fā)展，正從提供基礎(chǔ)光學(xué)性能，向賦能智能光學(xué)、集成光電子和適應(yīng)極端環(huán)境等前沿領(lǐng)域縱深拓展。其技術(shù)演進(jìn)與激光技術(shù)、信息光子學(xué)、先進(jìn)制造的進(jìn)步深度耦合，是未來(lái)高端光學(xué)系統(tǒng)和光電子產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新不可或缺的材料基石。
